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8486202100hs编码

时间:2019/6/5 20:47:54 点击:

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您查询的海关编码(HSCODE)[8486202100]申报要素及申报实例等详细信息
归属分类:第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件(84~85章)
章节归属:第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
84862021.00
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商品名称
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
申报要素
0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS;
法定第一单位
法定第二单位
千克
最惠国(%)
0%
进口普通(%)
30%
出口从价关税率
0%
增值税率
13%
退税率(%)
13%
消费税率
-
海关监管条件
检验检疫
商品描述
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)
英文名称
Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
个人行邮(税号)
海关监管条件(无)HS法定检验检疫(无)
许可证或批文代码 许可证或批文名称
检验检疫代码 名称
申报实例汇总
HS编码 商品名称 商品规格
84862021.00 有机金属化学气相沉积炉 用于生产LED高亮度蓝绿光外延片|用于生产LED高亮度
84862021.00 金属有机物化学气相沉淀炉 (ICCCS19X2/生产半导体晶片用)
84862021.00 化学气相沉积设备 (旧)(制作半导体专用)
84862021.00 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 (D15498A)
84862021.00 金属有机物化学气相沉积设备 D-180
84862021.00 金属有机源气相沉积设备 D300
84862021.00 镀膜机 COATING MACHINE
84862021.00 化学气相沉积设备/WJ牌 WJ999
84862021.00 射频等离子增强化学气相沉积系统 P600
84862021.00 金属有机物化学气相沉积系统 CCS 19X2 Flip Top
84862021.00 金属有机物化学气相沉积台 E450LDM
84862021.00 气体混合柜成套散件/RESI 化学气相沉积设备,将沉积薄膜的气体按照要求混合
84862021.00 化学气相沉积设备 CONCEPT ONE
84862021.00 C-1淀积炉 型号C1
84862021.00 IC淀积炉 型号7000VTR,旧设备
84862021.00 钨膜化学气相沉积设备 C3 Altus NOVELLUS牌
84862021.00 太阳能减反射膜制造设备 Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4)
84862021.00 (旧)常压化学气相沉积设备 在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson
84862021.00 外延炉 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S
84862021.00 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT

作者:HS CODE目录 来源:网络
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